受美国阻挠及新冠疫情影响，此前我国企业向ASML订购的EUV光刻机迟迟未能到货。如今，中企有望在其他供应商处找到转机。
据观察者网1月20日报道，在耗时近4个月后，晶瑞股份斥资1102.5万美元（约合人民币7129万元），从韩国代理商SK Hynix处购买的二手ASML浸没式光刻机（XT 1900Gi）已顺利到货。
据报道，该司预计2021年上半年完成设备的安装调试，用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶；并期望在3年内完成ArF光刻胶产品相关技术参数及产品定型，实现规模化生产。
所谓光刻胶，是一种对光敏感的有机混合物，主要应用于芯片制造环节中微细图形的加工。据晶瑞股份董事长吴天舒介绍，该设备有利于解决我国在集成电路制造领域关键材料“卡脖子”难题，待光刻胶成功研发后，也将为国产12英寸芯片的制造提供重要材料。
虽然光刻胶研发难度比光刻机的难度要小，但在核心材料上，目前我国仍然需要从海外进口。
而当前全球光刻胶市场基本被欧盟以及日本等几家大型企业垄断，在关键材料领域，信越化学、合成橡胶、富士胶片等日企则掌握着主要话语权。
因此，近年来我国也一直试图打破日本在光刻胶领域的垄断，近年来已有晶瑞股份、南大光电、以及上海新阳等中企入局。
2020年12月17日，南大光电发布公告称，该司研发的ArF光刻胶产品已通过客户使用认证，标志着国内第一只国产ArF光刻胶的诞生。
除了中企加速入局，“国家队”也集中力量帮助该领域的发展。去年9月份，在华为被断供一天后，中科院院长白春礼表示，将把美国“卡脖子清单”变成我国科研任务清单进行布局，集中全院的力量攻克难关。
文 |林妙琼 题| 徐晓冰 图|饶建宁 审|廖力思
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