國科精密的業務可分為核心技術、產品及技術服務三大類。公司目前掌握的核心技術有超精密光學技術和具備計量功能的日盲紫外成像探測技術，
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其中超精密光學技術主要用於半導體用光刻機的曝光系統等具有高度複雜、追求極限精度光學的領域中，掌握該技術的外國公司也就蔡司公司和日本尼康等幾家。公司僅提到蔡司公司和尼康，實際上目前掌握該技術的公司還有日本佳能和美國Cymer公司。
國科精密承擔了該領域的國家02專項，研製的國內首套數值孔徑0.75的ArF曝光系統Epolith A075已經成功交付用戶，實現了整機曝光分辨率85納米的理想結果。當然公司沒有說太多信息，但我們也知道目前國內從事半導體用光刻機研發、製造的公司是上海微電子裝備，國科精密的客戶也就是上海微電子裝備了。
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