国科精密的业务可分为核心技术、产品及技术服务三大类。公司目前掌握的核心技术有超精密光学技术和具备计量功能的日盲紫外成像探测技术，
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其中超精密光学技术主要用于半导体用光刻机的曝光系统等具有高度复杂、追求极限精度光学的领域中，掌握该技术的外国公司也就蔡司公司和日本尼康等几家。公司仅提到蔡司公司和尼康，实际上目前掌握该技术的公司还有日本佳能和美国Cymer公司。
国科精密承担了该领域的国家02专项，研制的国内首套数值孔径0.75的ArF曝光系统Epolith A075已经成功交付用户，实现了整机曝光分辨率85纳米的理想结果。当然公司没有说太多信息，但我们也知道目前国内从事半导体用光刻机研发、制造的公司是上海微电子装备，国科精密的客户也就是上海微电子装备了。
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