光刻机对于芯片制造的重要性如今已是不言而喻，在整个芯片生产流程中，有30%以上的工序，都要用到光刻机。而光刻机门槛颇高，使得目前仅有ASML、Canon、Nikon三家企业能够生产高端光刻机。
其中，ASML的高端光刻机出货量更是在全球占据90%的超高份额。EUV光刻机研制更是被ASML独占，处于垄断地位。EUV光刻机有着“半导体工业皇冠上的明珠”之称，据悉，其制造难度不亚于原子弹。那么，为何高端光刻机生产如此之难？
首先，光刻机是全球最顶尖科技的集合，其核心零部件技术难度都不低，有着最前沿的技术为依托。
其次，光刻机核心零部件将近10万个，这无疑是一项巨大的工程。而这些零部件仅靠ASML不可能全部生产，因此，ASML光刻机将近90%的零部件由供应商提供。如何打通供应链，是一个不小的挑战。
这两大难题便挡退了不少想要进军光刻机领域的企业。更何况，光刻机生产技术、调试技术等，均是必须面对的难题。虽然我国光刻机落后，但在ASML光刻机10万个零件中，也有来自中国的企业的技术。赛微电子、福晶科技与蓝英装备子公司，便是ASML的三家中国供应商。
其中，兰英装备子公司供应的清洗设备，主要用于EUV光刻机光学系统的关键部件。光刻机在制造芯片过程中，需要经过多次清洗，这就需要专门清洗设备的帮助。而英蓝装备子公司，便是光刻机清洗装备供应商中的一家。
赛微电子主要是ASML供应微机电系统MEMS。赛微电子的MEMS虽然只有几毫米，但担任着十分重要的角色，负责EUV光刻机的微流控。
福晶科技的产品为光学元件，光源对于光刻机来说至关重要。因此，光学元件对光刻机来说也很是重要。不过，福晶科技只为ASML提供极少量光学元件，还是需要进一步努力。
通过上述信息来看，中国企业的产品在光科技中，也有不错的发挥。但整体来看，中国企业在ASML供应链中所占份额较低，并且拥有可替代性。由此来看，中国芯片产业落后还是十分明显，需要进一步提升。
目前，中科院院长白春礼已经表态，将举中科院之力，发展光刻机等被卡脖子的产品等。希望有一天，中国也能有自己的高端光刻机，不必再受制于人。
文/BU 审核/有鱼
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