近年来美国为了能够进一步打压中国的通讯数据企业，禁止了对我国的芯片出口。同时为了防止中国在未来生产出芯片，抢夺美国的芯片市场，美国把其他国家对中国的光刻机出口也一并禁止了，想从根源上扼杀中国半导体产业的发展。
中科院在近期对外声称，为了解决光刻机卡脖子的难题，在未来十年将会对该领域进行技术攻关，为此还制订了战略计划。中科院此次立下大功的消息一经传出，荷兰的态度顿时大变，声称不需要美国的允许，将放宽对中国光刻机都出口限制，并且可以向中国出售无需美国授权的DUV光刻机。
中科院对光刻机卡脖子实行技术攻关
近年来，随着中国经济不断发展，带动了多个产业的优化和革新。然而中国的半导体产业因为缺乏相应的技术，导致发展十分缓慢，芯片也一直依赖对外进口。
自特朗普执政后，对中国的打压制裁也变得愈发明显，甚至还对中国颁布了禁令。事实上，美国看准了中国在该领域上的短板，本以为会一举打压中国的高新技术产业。
没成想中国很快就制订了应对措施，和该领域相关具备芯片生产能力的企业更是团结一致一同参与到芯片的研发当中，而中科院也开始对光刻机领域展开研究。
中国科学院院长在近期举办的国新发布会上，介绍了中科院的率先行动计划实施进展。
该计划的第一阶段在18年正式启动，针对网络安全、超算系统以及潜航器共3个专项展开了研究，而在19年也开始芯片与基础软件处理等共5个专项展开研究。
第二阶段研究目前还在进一步研究制定中，计划在未来10年将会对芯片光刻机等卡脖子问题进行专项攻关。本次攻关将会集中全院的力量，对国家重点关注的领域进行部署。预计到2030年将会全面实现四个率先，响应党的号召和中国未来规划布局相互映衬紧密结合。
中国的率先计划也已经取得了一定的成果，在一些领域已经位于世界的前列，为国家的科技发展进程起到了推进的作用。
荷兰放宽对华光刻机出口限制
事实上在中国宣布对光刻机的攻坚计划之后，荷兰的光刻机巨头ASML公司也立刻坐不住了，声称将会放宽对中国的光刻机出口限制。在近期举办的第三届进博会上，ASML公司还带来了他们的DUV光刻机进行参展。因为美国禁令的缘故，该公司本次并没有展示他们的最新成果EUV光刻机而选择了DUV光刻机。
该光刻机可以生产出7nm的芯片，ASML公司也表示在不需要美国允许的情况下，可以对华出口DUV光刻机。该光刻机的性能虽然无法和EUV光刻机相比，但是它所生产出的芯片基本满足了中国当下对芯片的基本需求。
中国的生产发展水平已经让世界各国看到了潜力，如果中国对光刻机芯片等领域完成攻坚，那么半导体制造业的订单将会大量的流向中国。这将更不利于其他光刻机芯片企业的发展。
现如今中芯国际生产出的芯片已经进入了量产阶段，中国在该领域已经基本满足了自产自销。光刻机的研发进度在一定程度上也决定了中国在芯片制造的技术水平，中国在未来成为该领域的领头羊恐怕也只会是时间问题。
在经济利益面前，荷兰的ASML公司并不想因为美国的禁令就彻底放弃中国市场，从长远发展上来说，和中国达成合作才更有利于企业经济增长。
中国市场对光刻机的需求随着科学技术的发展已经愈发强烈，为了率先夺得中国的大量订单，ASML本次也拿出了诚意。两国在该领域的合作也由此打开了一个突破口，双方也将会在未来进一步加强合作。
参考资料：人民网、中国微米纳米技术学会
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