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两个新消息突然传来,事关台积电和ASML!

科技数码 北河科技

关于台积电和ASML的消息,基本都关系着世界芯片产业的发展,一个是唯一能生产顶级光刻机的企业,一个是晶圆代工行业的老大。

ASML已经研制出了NA EUV光刻机可以进行4nm、3nm工艺制程芯片的生产,而台积电利用这一光刻机也能实现3nm芯片的代工,这里还有两个新的消息。

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你不知道的,关于芯片检测的知识:YieldStar 385检测系统

第一个消息是ASML已经交付了第一台YieldStar 385检测系统,这一检测系统是一种前道量检测系统,在芯片制造过程中起作用,传统芯片过程分为芯片设计、芯片制造、芯片封装检测三个部分。

芯片的量测也是贯穿了整个过程,对应三个过程,分别叫做芯片的设计验证、前道量检测和后道量检测,此前台积电就因为一出小的失误,从而报废了成堆成堆的芯片,损失了30多亿,整个晶圆厂又从头开始生产。

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台积电这一次的失误在于芯片制造过程中,光阻剂产生化学反应形成了一种新的物质,而检测设备没有发现这一情况,事实上道前量检测是三个检测步骤中最难的一环,往往要穿梭于成百亿的晶体管之中。

而加工出一块芯片,晶圆厂往往要历经600到1000甚至更多的工艺制作过程,任何一个过程不够完美,都会引起整个芯片生产线的成果毁于一旦,后期的封装检测也就没了意义。

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YieldStar 385检测系统如何去运作:细微处发力

芯片在制作过程中会面临两大类问题,一个是物理外观上的问题,比如晶圆会微微凸起或者凹下去,比如间隙分布不够均匀,在比如晶体管之间的桥接,这一类物理问题会导致漏电、爆炸等现象。

另一类则是化学问题,晶圆代工不仅仅是单纯的机械设备,许多原材料会使用到其中,在遇光、遇热、通电等情况下,都有可能产生不可预测的化学反应,这一类问题也是最难解决的问题。

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YieldStar 385检测系统的作用就是在这两大类问题上下功夫,前道量检测的原理十分简单,就是利用晶圆反射过来的光,检测晶圆内外部是否一切正常,算是一种高精密性质的超级光学仪器。

YieldStar 385检测系统的最高精度可以达到1nm,它的出现最大的意义就是,可以使得5nm芯片的工艺制程更加成熟,同时3nm的芯片也能风险量产,甚至是到了量产的地步,这个细微处发力的系统就是为了提高芯片良品率。

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台积电进行3nm芯片风险量产,A15芯片或许是3nm芯片

第二个消息:尽管ASML没有透露YieldStar 385检测系统最终交付给了谁,但是台积电已经该表示将会启动3nm芯片的风险量产,因此外界猜测或许是台积电分到了YieldStar 385检测系统。

基于这样的猜测,有媒体猜测2021年下半年台积电就能实现3nm芯片的量产,比预计的2020年下半年量产提早了一年,所以iPhone13的芯片A15可能就是3nm的芯片,也是第一款搭载3nm芯片的手机。

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这样的猜测虽然有一定的道理,但是iPhone13的A15芯片,在一众大的趋势下,是一个比A14更加先进和成熟的5nm芯片才对,而台积电2021年下半年实现3nm芯片量产的可能也不会很高。

因为苹果、高通、华为、三星、联发科等企业,并没有官宣自己设计出了3nm芯片,这一过程还需要酝酿,并且集聚力量才行,因此台积电最早要等到2022年上半年才能实现3nm芯片的量产,并有定订单可以去做。

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文章的最后,你搞明白YieldStar 385检测系统以及台积电的3nm工艺制程了吗?

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