华为5G在业内业外闹得是沸沸扬扬，美国一招制裁更是让麒麟9999芯片成为“绝响”，不过如今中国可不再会被芯片行业给绊住腿脚了，中国芯片行业再传新进展，国产光刻机实现大突破，这回国际社会可就要被打脸了。
近日，有消息称中国国产光刻机终于实现了重大突破，在高端光刻机领域终于实现了22nm精度的光刻机，首台n+1工艺的光刻机落地。想当初，中国芯片技术在国际社会上可是备受冷眼，甚至有荷兰专家还表示就算把技术图纸放在中国面前，中国都做不出来，如今可要被打脸了。
虽然这个光刻机的精度和现在国际上最先进的荷兰可以达到5nm精度的光刻机并不能相比，甚至就连华为公司需要的7nm芯片同样无法制造。但是就中国早有的光刻机技术只能停留在28nm的程度还是一件十分令人惊喜的消息，毕竟饭要一口一口慢慢吃，芯片自然也要一点一点慢慢做。
光刻机和芯片行业有什么关系？之前不是有说中芯研制出来7nm芯片的消息吗？
其实关于这个小标题应该是很多人的疑问了，毕竟在不了解内情的人看来，怎么越研制还越倒退呢？其实并不是如此，中芯研制的是如何制造7nm芯片的技术，也确实十分重要，但是在这个基础上还要求有这个芯片是可以制造得出来的。
这就要说到光刻机了，光刻机作为芯片制造行业中的“璀璨明珠”其重要性就好比做饭，就算把食谱放在你面前，手残的一样做不出来，而这个光刻机就是制造芯片中最重要的手艺。只有高精度的光刻机，才有制造高端芯片的能力。
但光刻机的制造技术却难度很大，并且中国本就比比人发展更慢一步，还要全方位发展，难免就多有疏忽，这也是为什么的外国光刻机技术的精度在这之前依然只有28nm的原因，所以光刻机技术一直就是中国的短板之一，不然那也不至于，美国的一个禁令，就能对中国实现“卡脖子”。
当然从另一方面说，即便中国光刻机精度技术终于突破到22nm，也依然制造不出华为所需要的芯片，但是作为在半导体行业确实十分落后的我们来说，这一步的跨越得足足有6nm的精度，相信中国在之后自然还会有更多的突破。
毕竟自从美国的禁令之后，中国才正式下定决心要补上短板，就科研实践来说，这段时间确实十分短暂，中国就能实现这样的技术大突破，生产出了中国首台n+1工艺的光刻机，这就让未来再次拥有了无限可能。
还要谢谢美国给了机会，让中国补上短板，有了自己的国产光刻机。毕竟华为5G技术是国人的骄傲，但是芯片却始终是一道刻痕，就像是受伤之后去医院看诊，要把伤口拿出来清洗一番才能最终缝合一样，中国芯片想要真正成功，这一步终究是不可少的，所以这确实一件好事，要好好谢谢美国。
还有一个好消息就是，中芯已经开始准备和ASML展开新的谈判，加快采购国外更先进的EUV极紫外光刻机，如果成功，将会实现芯片量产。
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