作为世界范围内的芯片技术“老大”，美国及其他欧美国家曾非常傲慢的认为我国的高科技技术领域简直是一塌糊涂，就拿光刻机来说，即使他们给我们全部的图纸，我们也不可能研发的出来，但中国却用实际行动，给欧美国家上了生动的一课。
作为芯片制造领域最重要的基础设施之一，世界各国对于光刻机的研发和制造就报以高度重视的态度，可以说，如果不能制造或者无法使用高级光刻机，那不管其国家芯片技术再好再优秀，也无法制造出符合企业实力的高级芯片。其实中国在很多领域的发展已经足够领先，就比如华为的5G，正是因为走在了美国的前面，因此才会被美国盯上，因为美国感觉自己的地位收到了威胁，因此才会使出一些卑劣的手段进行限制。
其实我国在发展的过程中并不是一帆风顺的，这都是我国通过自身的努力所换来的，就比如在光刻机的领域上，我国为了破除美国禁止高级光刻机出口对我国带来的不利局面，我国无数的半导体科技企业前赴后继，试图从光刻机领域入手，打破美国光刻机的技术垄断，为我国芯片制造创造出新的发展契机。
在经过了长达半年的全力研究中，微电子公司率先突破了美国的封锁传来好消息，该公司攻克了22nm的光刻机，并且正在将其运用于具体操作中去，等待完成最终测试后，我国在光刻机领域就迎来了一个里程碑式的突破，这对于我国芯片制造企业来说，绝对是一个令人振奋的好消息。
实际上，我国对于光刻机研究的这条道路远比想象中还要苦难，其相关企业不仅要面对来自资金、技术以及人才方面的缺失，还要承受世界各国科研团队的冷嘲热讽，更有美国工程师对此戏谑道：即使他们将高级光刻机的图纸卖给我们，凭借我国现有的人才和技术条件，也不可能复制出一模一样的出来。
这种打击人心的话语非但没有打击到我国科研团队的信心，反而更是激发了他们强烈的创新欲望，在这些科研团队的努力下，我国不需要从他国购买图纸，也能完成高级光刻机技术的突破。其实美国这些顶尖科学家的傲慢态度也不无道理，如果将眼光放在二十年前，甚至是十年前，那么他们所说的话就是句句属实。
以当时我国的技术条件，即使有了全部的图纸，但精密制造设施的落后也不可能研发出来光刻机，工业制造基础实在是太过于薄弱。但现在的中国早就已经今非昔比了，不管是基础制造也好，还是相关人才培养也好，中国都已经走在了世界的前沿，这些技术人才在光刻机的制造业务上发挥了巨大的力量。
不过，这并不代表我国在光刻机领域就有了可以长期炫耀的资本，实际上，我国在光刻机领域需要走的路还非常之长，像如今国际上光刻机研究巨头公司ASML已经能制造5nm的光刻机了，我国目前不过是突破了22nm，这说明我国当前距离国际上的ID顶尖水平还有很长的一段距离，对此，我国光刻机研发企业仍然需要继续努力。既然有了一个令人振奋的开始，那就保持这种创新精神再创辉煌。不管是芯片领域的研发也好，光刻机领域的研发也罢，都不是一朝一夕可以完成的工作，需要成千上万科研人员的共同努力，而我们相信我国终会做到，而这天也已经不远了。
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