文|梦未来
大家都知道，光刻机是生产芯片最关键的设备，是半导体芯片生产必不可少的超高精密设备。如果说航空发动机代表了人类科技领域发展的顶级水平，那么光刻机则是半导体产业界最为耀眼的掌上明珠。
可正是因为我国没有高端光刻机的制造能力，才会在光刻机等核心领域处处被“卡脖子”，以至于华为海思就算有全世界顶尖的芯片自研能力，也无法顺利得到自己所需要的芯片，其最根本原因就是我国在光刻机、材料等核心领域被死死的限制住了。所以，要想国产芯片不再受制于人，就必须建立芯片领域完整的产业链，补足芯片制造及关键材料等领域的短板。
而近日，国内知名半导体材料公司晶瑞，在耗时4个月后，终于购得ASML公司光刻机一台，为国产光刻胶的发展带来了转折。根据最新媒体报道，中企晶瑞已经官宣了，在不断的努力下花费1102.5万美元（约7100万人民币），顺利购得ASML沉浸式XT1900 Gi型光刻机一台，而且该光刻机已顺利到货并送达到了晶瑞高端光刻胶研发实验室。
虽然，晶瑞花费7000万买到的ASML光刻机是韩国代理商SK Hynix的二手货，但是关于ASML光刻机的到来，对于晶瑞而言同样是个可喜可贺的消息。因为，这为该公司可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶，打下了坚实的基础。
要知道，光刻胶是芯片制造的关键材料。在晶圆被加工成芯片之前，光刻胶会被涂抹到晶圆表面形成电路，而光刻胶的质量直接影响到芯片生产。简单来说就是，在芯片制造过程中，有了光刻胶芯片才能被生产出来。所以，光刻胶在芯片生产中占据着不可替代的关键性位置，尤其是生产高端芯片比如7纳米、5纳米的高端光刻胶。
而中企晶瑞已经专注于光刻胶生产30年，组建了国内领先的光刻胶研发团队，具有丰富的光刻胶研发和生产经验，并先后承担着国家重大科技专项项目。本次购买ASML光刻机，旨在研发出更高端的ArF光刻胶，倘若进展顺利，将有助于实现ArF光刻胶的跨越，并最终应用于12英寸芯片制造的战略布局。
不仅如此，在全球光刻胶市场基本被日本、欧洲、美国等几家大企业垄断的背景下，我国仍然依赖海外进口光刻胶。如果晶瑞能成功研发出高端光刻胶，意味着我国在光刻机关键材料领域又多了一些话语权，有利于解决我国在芯片制造领域关键材料“卡脖子”难题。
其实，在我国高科技企业处处被美国限制的情况下，不止国内企业集中精力大力搞研发，国家也有所行动。比如，国内第一所芯片大学——南京芯片大学成立，旨在培养芯片技术方面的人才；国家为了鼓励芯片产业的发展，减免10年税收的大好政策；还有我国正式下达了，要在2025年芯片从30%到70%，自给自足的重要目标。
另外，在去年9月份，美国正式断供华为芯片的第二天，中科院白院长也已经下定决心将光刻机、关键材料等美国“卡脖子”的核心领域纳入了科研清单。
总的来说，无论是晶瑞、华为等国内企业加大国产技术研发，还是国家对芯片的重要部署，只要国内上下万众齐心，相信总有一天会摆脱美国的技术限制。到时候国内科技企业，想再被“卡脖子”都难矣，让我们拭目以待吧！
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