国产光刻机
以现在看来，暂阶段EUV光刻机我们是拿不到了，而我们所能够依赖的，还是我们自己，我们自己的光刻机，而EUV光刻机应该是一个需要异常难以攻取的科技高峰了。
因为差距在那，正视差距也是需要我们摆正心态。不过，很多人还是想知道，我们的国产光刻机到底处于什么水平？
说光刻机不能不说ASML，尤其是该公司的EUV光刻机，可以实现5nm、3nm甚至是更先进制程工艺的光刻制造。可以说现在世界上，能够实现该范围光刻工艺的光刻机，只有ASML一家可以供应，离开了ASML，制造不了。
ASML光刻机
国产光刻机落后，不是一两年、三五年的问题
我们的光刻机呢？先不要失望，因为我们现在能够做到的还在90nm，这是事实，即便是现在已经在疯传的28nm国产光刻机，也只是处于传闻阶段，从早前的今年年底，到明年年初，再到明年年底，时间一致在后退，而且这还只是乐观的传言。
用90nm和5纳米比较，这个差距就有点太大了，即便是到了28nm，这个差距也不是一两年就可以追上的，要知道台积电、三星早在2011年前后就已经实现了28纳米制程工艺芯片的量产，咱们乐观一点，明年可以实现28nm国产光刻机的制造，但是要想进入代工生产线，这里面还需要时间，即便如此，我们已经至少落后了十年以上，即使是弯道超车，又谈何容易。
ASML光刻机
国产光刻机发展为何如此慢？难道仅仅是我们国家没有足够的认识么？我们中的一些人，当遇到一些问题的时候，总是喜欢找一些理由，甚至是找一些可以背锅的，找来找去，就是觉得我们政策上觉悟晚了。
我觉得这样的认识不但不符合事实，甚至是有点牵强。因为光刻机的制造发展，还有一个非常重要的因素：市场生态。
按理说，我们的国产光刻机发展起步并不算太晚，只是，我们遇到了一个劲敌：造不如买买不如租。眼看外国的设备成熟、先进，那就对国产设备“抱有成见”，越是抱有成见，越是看国外的设备顺眼，结果，即便是当国产设备已经免费送上门了，也不会正眼看上一眼。
ASML光刻机
国产光刻机在芯片厂房堆放成了废铁，也没有用上
别不当真，这事还就是真的。曾有疑似上海微电子的人在社交媒体上留言称，该公司曾在2015年的时候，给国内的一家芯片制造厂送了一台光刻机样机，结果，对方一直没有用，直到机器在厂房里面都成了一对废铁，结果自然可想而知。
如果又将此问题归结为芯片制造厂商眼光短浅的话，同样也是以偏概全，现在国产芯片制造产业的产业链本身不健全、存在短板，尤其是对于代工企业来说，无论是技术成熟度，还是资金实力，和巨头厂商比起来，根本不在一个级别，自有的产品线本身就是建立在国外的一些设备、材料和技术上的，一旦更换其中的一个设备，或者材料，就有可能影响到一个环节的正常运转，甚至是整条生产线的运转，这对于代工厂来说，是很难下决定尝试更换国产设备的。
ASML光刻机
这些一连串的问题，形成了一个恶性循环，尤其是在市场作用下，会导致这一问题“积重难返”，也造成了今天的不利局面。
不过，一旦有了外部压力，事情或许就是好的变化了。现在，我们所面临的外部压力非常严峻，尤其是在半导体产业上，甚至会影响到高新技术产业创新的发展，那怎么办呢？这让编者想到了小孩子的“强制断奶”问题，既然已经“被断奶了”，那也只能“吃些饭食’了。
ASML光刻机
这时候，对于国产芯片制造来说，岂不就是国产设备、材料、技术进入的最佳时机？尽管刚开始不适应，别着急，粗茶淡饭照样可以”养活强壮‘，只要我们形成自己的体系，坚持做我们的设备、技术以及材料，那属于我们的生态技术体系就可以发展壮大，届时，莫说光刻机还是不是卡脖子的问题了，即使是整个产业链，我们和人家比，也不会弱到哪里去，更别说我们在高端芯片上的发展了。
国产光刻机
国产光刻机不是靠喊口号就可以制造出来的
相信，对于我们来说，大家都在憋一口气，都想为我们的国产光刻机发展奉献一把属于自己的力量，不过，国产光刻机的发展可不是鼓鼓气，喊几句口号就可以的，也不是一两个政策，三四个企业就可以搞定的。
国产光刻机
首先，光刻机制造需要技术积累，高新技术不是冒出来的，而是一步步的积累，是属于“厚积薄发”式的，就像镜片的打磨一样，这需要一层层地进行，一次次的测试和验证，积累得够了，才有可能成功；其次是需要生产线的测试，一旦上了生产线，这样的测试就更加慎重了，“一着不慎满盘皆输”，不但前面需要重来，生产线也要停下，但是这一步又必须进行，所以，我们急需要勇气，也需要担当；最后，还要市场的认可，这样的光刻机大家是否认可，是光刻机从“弱小”到“强大”的关键。
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总之，国产光刻机，需要资金，需要人才、需要技术，更需要我们的包容和耐心。
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