众所周知，中国的科技发展水平极为迅速。在科技发展速度这一方面不能说后无来者，但也绝对称得上是前无古人了，在科技水平迅速发展的数十年时间里，中国也遇到了一些科技的瓶颈，也就是我们熟知的光刻机与芯片问题。
想要制造顶级的芯片，就必须用到最顶级的光刻机，而如今最顶级的极紫外光刻技术，也只是掌握在少数顶尖科技企业的手中，就比如说荷兰的阿斯麦，然而就在这阵子有很多媒体表示，中国不需要EVU光刻机就能研制出5nm芯片？中科院回应：别再造谣了。
在大概半年前，中科院的一些研究团队发表了关于新型5纳米超高精度激光光刻加工方法的论文，而这一论文的出现便有很多媒体朋友们以为中国能够直接越过EVU越光刻机研制出5纳米芯片，一时间人声鼎沸，议论纷纷。
但实际上这样的传言在近期是不可能完成的，发表的论文以及真正的极紫外光刻技术完全不一样，中科院所研制出来的五纳米高精度光刻方法，最大的用途是做光掩模，而真正的EUV光刻机，并不仅仅只是这项技术。
在如今中国的很多中低端光刻机其实运用到的也是外来的技术，很多装备材料零件都是采购国外的，这样的技术，即使中国还没有攻克难题。所以请不要盲目自嗨，真正的难题还在等着我们，不过中科院的这一突破也证明了中国中光科技方面有了极大突破。
一口是吃不成胖子的，慢慢吃，慢慢消化，积极的吸收外来顶尖科技，相互借鉴，才能够一步步铸成最顶尖的科技，现在中国在光刻机与芯片方面有难题，但是可以先引进DVD光刻机来过渡。再慢慢的突破。
对此，各位读者们有什么看法？欢迎评论区留言、分享、长按点赞一键三连。
转载请超链接注明：头条资讯 » 中国不需要EVU光刻机就能研制出5nm芯片？中科院：别再造谣了
免责声明
：非本网注明原创的信息，皆为程序自动获取互联网，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责；如此页面有侵犯到您的权益，请给站长发送邮件，并提供相关证明(版权证明、身份证正反面、侵权链接)，站长将在收到邮件24小时内删除。