近些年来中国高速发展给众多领域带来了可圈可点的成绩，但依然有个别领域相比西方国家来说还是处于落后水平。我虽然国在极力发展光刻机技术，但距离世界先进水平依然有很大差距，中国也因此曾处处碰壁，但近日根据有关消息，中国自主制造的光刻机成功落地，这也让一些美国人士感叹速度太快了。
美国遏制中国高端芯片
近些年来，华为公司快速崛起，更是体现着中国技术走向世界前列，但这也引来了一些国家的嫉妒，美国在通信领域一直占领着绝对地位，然而，华为公司率先研发推行5G技术，并且在全世界范围内，华为的5G技术已经名列前茅以及使用设备成本，都比同一领域相同产品低很多。这让美国感到了“威胁”，于是先后对华为采取一系列制裁措施，禁止美国企业采购华为公司生产的设备，同时也命令相关企业停止向华为供给芯片，美国的此举无疑是扼住了华为命运的咽喉。
面对这样的困局，我们也要从自身找原因，像华为这样的企业在国内还有很多，目前不具备制造高端芯片能力，高端芯片代表着微电子领域的高技术，而其制造难度相当于建造一艘航母，而此技术的关键设备正是光刻机，目前在全世界范围内，只有三家公司能生产该设备
我国光刻机技术正在稳步上升
事实上，我国拥有制造芯片的光刻机设备，但相比于先进水平还差很多，目前华为手机所使用的是7nm芯片，而我国光刻机技术还停留在28nm，这对我国微电子领域发展是极为不利的。
我们从来没有放弃过改善这一局面，终于在我国相关领域专家和企业共同努力下，近日，上海一家微电子公司在高端光刻机方面取得了突破性进展，成功研制出22纳米光刻机，这虽然与目前荷兰公司所研制能达到五纳米的AMSL 光刻机存在着很大差距，但这也为我国高端芯片制造带来了明朗前景，也为华为公司带来了希望曙光
我们坚信，我们的科研团队能够研制出匹敌世界一流技术的光刻机，只要在这个漫长而艰难的路上，能够脚踏实地的走，有朝一日，我们就能赶超世界先进水平，到时候以美国为首的西方国家，要想利用此技术来限制中国就是异想天开了。
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