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中芯國際再次確認!無需購買ASML高端UEV光刻機:也能造出7nm芯片

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【8月5日訊】相信大家都知道,全球最強、最先進的光刻機生產巨頭—ASML,近日正式對外發布了一組數據,聲稱ASML作為目前全球唯一能夠生產EUV光刻機設備廠商,已經在全球範圍內出貨了57臺EUV光刻機,但即便如此,中國企業也未能夠購得一臺ASML EUV光刻機設備,幾乎所有的EUV高端光刻機設備都被三星、臺積電、intel這些廠商買下來了,這也是讓中芯國際、華虹半導體等一眾國產芯片代工企業,在芯片製造工藝上面被“卡脖子”;確實目前全球所有的芯片代工企業想要生產7nm或者以下工藝節點的芯片,就必須要從ASML購買EUV光刻機設備,並沒有其他的選擇項可選。

中芯國際再次確認!無需購買ASML高端UEV光刻機:也能造出7nm芯片

不得不說在目前這個“技術封鎖”的階段,中國芯片代工企業想要購買到一臺EUV光刻機,確實也是存在很大的難度,這是否也意味著國產芯片永遠都無法踏進7nm工藝時代了呢?

中芯國際再次確認!無需購買ASML高端UEV光刻機:也能造出7nm芯片

其實中芯國際目前就在打造一套全新的芯片製造方案,在無法購買得到ASML的EUV高端光刻機設備的情況下,依舊可以實現7nm製程工藝技術的量產,但中芯國際卻將自家的7nm芯片工藝稱之為:“N+1技術”;

中芯國際再次確認!無需購買ASML高端UEV光刻機:也能造出7nm芯片

從中芯國際在前一段時間對外公佈的數據顯示,中芯國際的N+1技術相較於14nm芯片,性能直接提升了20%、功耗降低了57%、邏輯面積直接縮小了63%,SOC面積更是縮小了55%;從中芯國際所公佈的數據來看,也是無限接近於臺積電的7nm製程工藝,更重要的是中芯國際的N+1芯片製程工藝並不需要用到EUV光刻機,僅使用目前所購得ASML 193nm光源的浸潤式光刻機就可以實現,但整體芯片製造工藝更加複雜,所以對於中芯國際而言,無疑也將會面臨著更大的挑戰。

中芯國際再次確認!無需購買ASML高端UEV光刻機:也能造出7nm芯片

不得不說,這次中芯國際巧妙的繞開了國外對EUV光刻機的封鎖限制,讓國產芯片也能夠進入到7nm時代,這無疑也將會進一步促進國產芯片產業鏈的發展、崛起,各位小夥伴們,你們是否看好中芯國際的“N+1”芯片工藝呢?歡迎在評論區中留言討論,期待你們的精彩評論!

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