眾所周知，中國的科技發展水平極為迅速。在科技發展速度這一方面不能說後無來者，但也絕對稱得上是前無古人了，在科技水平迅速發展的數十年時間裡，中國也遇到了一些科技的瓶頸，也就是我們熟知的光刻機與芯片問題。
想要製造頂級的芯片，就必須用到最頂級的光刻機，而如今最頂級的極紫外光刻技術，也只是掌握在少數頂尖科技企業的手中，就比如說荷蘭的阿斯麥，然而就在這陣子有很多媒體表示，中國不需要EVU光刻機就能研製出5nm芯片？中科院迴應：別再造謠了。
在大概半年前，中科院的一些研究團隊發表了關於新型5納米超高精度激光光刻加工方法的論文，而這一論文的出現便有很多媒體朋友們以為中國能夠直接越過EVU越光刻機研製出5納米芯片，一時間人聲鼎沸，議論紛紛。
但實際上這樣的傳言在近期是不可能完成的，發表的論文以及真正的極紫外光刻技術完全不一樣，中科院所研製出來的五納米高精度光刻方法，最大的用途是做光掩模，而真正的EUV光刻機，並不僅僅只是這項技術。
在如今中國的很多中低端光刻機其實運用到的也是外來的技術，很多裝備材料零件都是採購國外的，這樣的技術，即使中國還沒有攻克難題。所以請不要盲目自嗨，真正的難題還在等著我們，不過中科院的這一突破也證明了中國中光科技方面有了極大突破。
一口是吃不成胖子的，慢慢吃，慢慢消化，積極的吸收外來頂尖科技，相互借鑑，才能夠一步步鑄成最頂尖的科技，現在中國在光刻機與芯片方面有難題，但是可以先引進DVD光刻機來過渡。再慢慢的突破。
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