通往芯片自主路上的“攔路虎”-光刻機
光刻機被稱為工業皇冠上的明珠，因為它是傳統硅基芯片製造離不開的核心設備。在近三年的科技博弈中，我國短時間內難以實現芯片自主，就是因為美國牢牢限制著高端EUV光刻技術、設備對我國的出口。
不過需要注意的是，傳統硅基芯片在5nm、3nm工藝製程之後，已經逼近了物理極限，也就是說，硅領域已經沒有在進一步開發的空間。全球各先進的芯片巨頭都在尋找新型半導體材料或者下一代芯片以求替代。
在這種情況下，我國院士張鈸教授指出，中國芯片產業需要選擇新燈塔、新航道。
很顯然這個“新航道”不僅可以很好地繞開光刻難題，而且是解開我國芯片困境的密匙。
要知道，我國目前芯片製造工藝僅停留在14nm的層次，且良品率不高，與最先進的臺積電、三星的3nm、5nm相比，差了好幾個隔代。
如果按照傳統的路線去追趕，恐怕永遠都要晚上一步。因此，想要彎道超車，只有在領域內進行創造與創新。
中國芯解開封鎖的“密匙”
好消息是，在華為等國產企業被斷供芯片後的半年內，國內針對芯片自主問題做出了一系列的推進工作，並取得了不小的成果。
首先，中科院開發的8英寸石墨烯晶圓，不管是尺寸或者是性能，都領先全球，這為碳基芯片未來的商用埋下基礎。碳元素穩定的特性，決定了其製造方面無需高端的EUV光刻機，而且近兩年，我國石墨烯的年產值已超過300萬噸，同樣領先世界。
其次，華為建廠研發光芯片，光芯片是利用光技術實現智能產品的驅動，與硅基相比，光芯有著更強的抗幹擾性和傳輸穩定性，兩者有著本質的區別。
在光芯領域，華為已經申請專利，為的就是防止西方某國再跳出來進行技術幹擾。據科研人員測試，光芯片的驅動運算速率比傳統的硅芯片快了50%，功耗卻只有後者的1%。
還有量子芯片，量子技術與理論是我國重點強調的發展方向。中科院士潘建偉研發的“九章”能實現76個比特的運算，打破了谷歌“懸鈴木”53比特的量子霸權。師承潘建偉教授的金賢敏，帶領著上海交大科研團隊，突破了兩種光量子芯片的關鍵技術，而且成立了國內首家商業量子公司。
量子芯片被譽為半導體材料的終極形態，在研發難度上遠超碳基芯片和光芯片，當然，目前技術並不成熟，距離商用也有很長的路要走。但我國在量子領域所取得的成就仍然是值得肯定的，美國曾要求技術共享就是最好的證明。
寫在最後
在半導體領域，各方加強溝通協調合作本是常態，業內也有相應的貿易規則，但美國為了限制非美高科技的發展，卻擅自修改芯片規則，不斷升級對華為等中國科技企業的打壓，之所以會出現這種情況，是由於其掌握了大量的基礎科技，而我們卻只能依賴。
在經歷了“卡脖子”之痛後，我們已經徹底摒棄了“造不如買、買不如租”的依賴理念，並制定了於2025年實現芯片70%自主率的目標。
芯片禁令是一把雙刃劍，除了帶來損失之外，也帶給了我們決心。國內芯片產業的多元化發展，讓我們更有理由相信，擰成一股繩的中國科技企業一定能在芯片領域實現彎道超車。
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