隨著科學技術的進步，5G技術已經進入大眾視線，並在全國各地逐漸普及。未來在我國的每座城市都會建立一座5G基站。而一座5G基站的建成勢必會造成當地用電量的大幅度提升。眾所周知，5G基站是相當耗電的，不過在高科技領域，因耗電而出名的不僅有5G，還有芯片技術。芯片技術的耗電甚至大大超過了5G技術。
芯片技術有多耗電呢？就拿臺積電舉例吧！
從臺積電把DVU光刻機換成EUV光刻機的那一天開始，臺灣省的供電幾乎一直處於緊張狀態。製造芯片能有多耗電來看一組數據吧，臺積電一年的用電可達144億度，當地居民一年的用電量也才146億度，而臺積電一家企業的全年用電量能佔整個臺灣省全年用電量的百分之六。
臺灣省本來就是一個能源比較匱乏的地方，能源不足導致大部分的能源一直都依賴從國外進口，比如石油、天然氣等。如今缺電已經威脅到臺積電擴充產能了，因為芯片的需求量很大，而臺積電作為世界上最厲害的芯片企業訂單多到數不過，擴充產能極為迫切，但用電就成為當下最需要解決的問題。當地還是非常重視臺積電的，儘管能源緊缺臺積電用電量巨大，但在停電的時候，臺灣省還是將殘存的電都供給到臺積電，以保證其正常的生產芯片，畢竟臺積電停產就會有很嚴重的損失。
如今，臺積電已經可以生產5納米的高精度芯片來迎合芯片市場的發展和需求了。同時也意味著，臺積電需要精度更加精準的芯片生產設備，臺積電的耗電量還會在原來的基礎上有所提升。
那臺灣省能否支撐起未來臺積電的高精度芯片量產呢？臺積電為此也是頭疼不已，甚至通過自建電廠來彌補供電緊急的狀態，比如利用風能發電，但也未能從根本上解決問題，畢竟風能供電還是非常有限的。
據消息，臺積電為了電能目前計劃在美國建立第二座生產廠。不過生產芯片為什麼如此耗電呢？這和EUV光刻機有著密不可分的關係。別看這光刻機的功率只有250W，但它工作一天就能耗電近3萬度，可能就是如此大的耗能才能製造出5納米芯片！
首先因為EUV光刻機的採用的是極紫光，而極紫光是目前所有光波中最適合用來光刻的光波。但是由於極紫光本身易被吸收或折損的物理特性的緣故，導致極紫光的轉化率非常小，即便在真空環境中進行光刻，極紫光的轉化率也只有百分之2。其次，要製造出這樣的極紫光還需要用到大量的技術設備和強大的散熱系統。因此， EUV光刻機才如此耗電。
那麼可以換一種光刻機嗎？當然不能，因為精度越高的芯片對光刻機的技術要求越高，而且也只有光刻機才能在晶圓上塞更多的集成電路，製造出納米級別的高精度芯片了。作為芯片製造的巨頭企業臺積電，更是一次性從ASML購買了50臺的EUV光刻機，以生產納米級別的芯片。目前全球只有ASML一家可以生產這種高精度的EUV光刻機，像三星和高通這些半導體生產巨頭都是從ASML那裡購買EUV光刻機。
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