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時隔三個多月，這臺ASML的光刻機終於入廠了。
早在2020年9月29日，晶瑞股份公告，擬通過代理商進口韓國芯片廠商SK海力士的一臺阿斯麥的光刻機，總價1102.5萬美元。消息一出，公司股價立刻大漲。
2021年1月19日晚，晶瑞股份公告稱，經公司多方協商、積極運作，順利購得ASML XT 1900 Gi型光刻機一臺。該設備於2021年1月19日運抵蘇州併成功搬入公司高端光刻膠研發實驗室。下一步，公司將積極組織相關資源，儘快完成設備的安裝調試工作。
來源：晶瑞股份
晶瑞股份董秘陳萬鵬告訴中國證券報記者：“公司主要用來測試正在研發的ArF光刻膠，在這個領域我們國家還是空白，光刻機會很大程度加快公司的研發進程。同時公司未來準備以這臺光刻機為核心設備，打造一個半導體材料的綜合研發平臺。”
來源：Wind
用於研發ArF光刻膠
晶瑞股份是通過代理商從SK海力士手裡購買的一臺二手浸入式（DUV）光刻機。
公告介紹，公司採購的光刻機設備為ASML XT 1900 Gi型ArF 浸入式光刻機，可用於研發最高分辨率達28nm的高端光刻膠。
據瞭解，根據曝光波長不同，目前光刻膠可分為普通寬普光刻膠、 g線（436nm）、i 線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）及最先進的 EUV(
晶瑞股份採購的ASML1900型光刻機有助於其研發ArF（193nm）光刻膠。
來源：晶瑞股份
晶瑞股份全資子公司蘇州瑞紅，是國內最早規模量產光刻膠的幾家企業之一。蘇州瑞紅1993年開始光刻膠生產，量產光刻膠近30年，組建了國內領先的光刻膠研發團隊，具有豐富的光刻膠研發和生產經驗，先後承擔了國家“85”攻關、“863”重大專項、科技部創新基金等科技項目、承擔了國家02重大專項“i線光刻膠產品開發及產業化”項目，並順利通過國家02重大專項驗收。
據介紹，公司完成中試的KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。本次購買的ASML光刻機設備系公司集成電路製造用高端光刻膠研發項目的必要實驗設備，旨在研發出更高端的ArF光刻膠。若研發工作進展順利，將有助於公司將光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越，並最終實現應用於12英寸芯片製造的戰略佈局。
晶瑞股份公告稱，本次公司採購的ASML光刻機設備順利交付，可以保障公司集成電路製造用高端光刻膠研發項目關鍵設備的技術先進性，對加快產品研發項目進度有積極影響，有利於進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，有助於落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。
晶瑞股份也提示，公司研發項目經歷時間較長，且至產業化並最終實現銷售產生利潤仍需一定時間，本次購買的光刻機設備價格昂貴，其折舊及後續維護費用預計對公司的經營業績存在一定影響。
光刻膠研發有進展
晶瑞股份公告中表示，目前高端集成電路材料的核心產業化技術仍掌握在國外企業手中，大部分市場份額仍被外企所佔據，不少集成電路用關鍵材料已經成為我國“卡脖子”的技術領域，在國際環境日益嚴峻的情況下，如不能成功實現該領域的國產化，未來將付出更大的代價。
公開信息顯示，以ArF光刻膠、KrF厚膜光刻膠為代表的高端光刻膠以及工藝的主要技術和專利目前都掌握在國外的企業與研究部門，如日本的信越化學(Shin-Etsu Chemical)、合成橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、住友化學，這些企業幾乎佔據了國內外高端光刻膠市場全部份額。
ArF光刻膠是集成電路製造領域的重要關鍵材料，可以用於 90nm-14nm，甚至7nm技術節點的集成電路製造工藝。廣泛應用於高端芯片製造（如邏輯芯片、 AI 芯片、5G 芯片、大容量存儲器和雲計算芯片等）。
在ArF光刻膠研發的過程中，光刻機必不可少，其購買、運輸、安裝過程也備受關注。
1月5日，上海新陽公告稱，自立項開發193nm ArF幹法光刻膠的研發及產業化項目以來，根據項目進度，計劃安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備。後受美國針對我國半導體行業的出口管制措施加強及新冠疫情影響，公司進口光刻機的程序更加複雜。公司與光刻機供應商、合作方溝通協調設備運輸與安裝細節，涉及場地條件、物流運輸條件等等，沒能在規定時間內完成，但就具體合作細節已簽署了《合作框架協議》。
上海新陽介紹，未來公司將採購的用於193nm ArF幹法光刻膠研發的ASML-1400光刻機放置於合作方指定的地點，雙方正在溝通協商光刻機入廠的底座安裝及製作事宜，待底座安裝完成後，光刻機即可進入合作方進行調試使用。預計光刻機進入合作方現場的時間是2021年3月底前。
2020年12月17日，南大光電公告顯示，控股子公司寧波南大光電材料有限公司（簡稱“寧波南大光電”）自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。
寧波南大光電購買安裝的光刻機也是ASML的1900型號浸沒式光刻機。公告介紹，“ArF光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家“02專項”的一個重點攻關項目。本次產品的認證通過，標誌著“ArF 光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破。
南大光電介紹，ArF光刻膠的市場前景好於預期。隨著國內IC行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進製程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。本次通過客戶認證的產業化意義大。本次驗證使用的50nm閃存技術平臺，在特徵尺寸上，線製程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔製程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業界有代表性。
此外，南大光電1月4日還公告完成了對寧波南大光電的增資擴股，寧波南大光電實現融資2.6億元。
編輯：張楠 曹帥
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