參考消息網12月24日報道日媒稱，日本大型半導體制造設備廠商東京電子宣佈，將於2021年1月發售清洗機“CELLESTA SCD”，該產品帶乾燥功能，可提高最尖端半導體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”（基本沒有表面張力）的乾燥工序，防止半導體上的微細結構被破壞。這款清洗機將用於“微細化”和“多層化”的最尖端半導體制造，“微細化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。
據《日本經濟新聞》網站12月18日報道，新產品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界乾燥專用反應室，將用於製造結構不斷微細化、複雜化的邏輯半導體及個人電腦等使用的半導體存儲器DRAM。
報道稱，通過使用超臨界流體，可以降低乾燥時微細圖案結構被液體表面張力破壞的風險。新產品在乾燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。
東京電子的半導體清洗機。（《日本經濟新聞》網站）
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