中芯國際正處在多事之秋，蔣尚義迴歸致樑孟鬆出走，隨後昨晚美國商務部又將中芯國際列入實體名單，真可謂禍不單行。不過根據最新的消息傳出，在剛剛上任副董事長的蔣尚義的牽頭下，中芯國際與荷蘭ASML就進口EUV光刻機進行談判。
報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設備，儘管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。
對於中芯國際引入EUV （極紫外光源）光刻機事情，目前上市不被允許的，而ASML之前已經證實。
ASML CFO Roger Dassen表示，如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義(對於特定的中國客戶)，則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統，且無需出口許可證，但是EUV （極紫外光源）光刻機是沒有機會的。
2018年4月，中芯國際向ASML訂購了一臺 EUV 光刻機，價值1.2億美元（約合人民幣8億元），預計2019年年初交貨。後來此事被報道後，ASML迴應稱，對包括中國客戶在內的全球客戶都一視同仁，且向中國出售EUV光刻機並沒有違反《瓦森納協定》。當時，荷蘭政府的確向 ASML 發放了出口許可證。
今年3月6日，有消息曝出，中芯國際深圳廠區收到了一臺自荷蘭進口的大型光刻機。此消息傳出之後，市場也為之沸騰。不過，中芯國際很快就出來回應道，這只是常規的設備導入，並不是大家猜想的EUV光刻機。
目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV光刻機，分為幹分式與液浸式兩種。其中，液浸式於ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經過多重曝光後，液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得製造成本大大提升，而且良品率也難以控制。
EUV光刻機採用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片製程節點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那裡找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機，芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產線就無法投產。
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