科技數碼 中國和美國90年代同時預研5nmEUV光刻機，為什麼現在還沒造出來？ 芯片製造過程共分為七大生產區域，分別是擴散、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜生長、拋光、金屬化。光刻就是把芯片製作所需要的線路與功能區做出來。類似投影儀，不過光... 接近5年 (2020-07-27)